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高純金屬純度控制及提純技術 2015-02-05     總瀏覽:13572

由于金屬材料中的雜質會影響半導體芯片等下游產品的導電性能,因此,濺射靶材對金屬材料的純度提出了相當高的要求。公司通過自主研發和合作研發,已經具備生產高純度的濺射靶材用金屬材料(銅純度≥99.9999%;鋁、鈦純度≥99.999%;鉭純度≥99.99%)的技術能力,大大提升企業的市場競爭力。

     江豐電子生產的濺射靶材,其純度水平達到以下級別:

序號

材質

純度

1

Al

≥99.9995%

2

Ti

≥99.999%

3

Ta

≥99.99%

4

Cu

≥99.9999%

5

W

≥99.999%

6

Mo

≥99.99%

7

Co

≥99.999%


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